Semitron® MPR1000 para a indústria de semicondutores

Semitron® MPR1000 é um novo material de engenharia desenvolvido pela Mitsuibishi Chemical Advanced Materials para aplicações de semicondutores. MPR significa resistência máxima do plasma. Destina-se ao uso em câmaras de plasma a vácuo para substituir cerâmicas e quartzo para produção de UTI. Cerâmicas são mais caras e o quartzo está sujeito a quebrar. Ele também tem um desempenho melhor nesta aplicação do que PEEK, PAI, como Torlon® ou termoplásticos de poliimida. Por exemplo, MRP1000 tem uma vida útil aumentada em câmaras de plasma de até 25X em ozônio do que poliimidas como Vespel®.

As peças feitas de MPR1000 incluem parafusos, porcas sextavadas, arruelas planas, anéis de fixação, anéis de vala, pinos e chuveiros, bem como pinos de centralização, anéis de foco, isoladores, ventosas, guias de wafer e muitas peças personalizadas.

Profissionais do Semitron® MPR1000

Excelente resistência ao calor

Baixa taxa de erosão em câmaras de plasma

Baixo conteúdo iônico e baixa liberação de gases

Excelente resistência a cavacos

Durabilidade excelente

Facilmente usinado

Material plástico de menor custo que também oferece o melhor desempenho em câmaras de plasma

O que é plasma?

O plasma é frequentemente descrito como o quarto estado da matéria porque não é um líquido, um gás nem um sólido. Ele existe na forma de íons e elétrons. Em essência, o plasma é um gás ionizado eletrificado com elétrons extras negativos e positivos. Embora o plasma exista em outras partes do universo, pouco ocorre naturalmente aqui na Terra. Exemplos de plasma em nosso planeta são relâmpagos, eletricidade estática e auroras.

Por que tratar uma superfície com plasma?

O tratamento com plasma da superfície de um wafer de silício geralmente é feito para limpeza, ativação da superfície, deposição e corrosão. O tratamento de superfícies com plasma remove quaisquer contaminantes estranhos, tornando-os mais adequados para processamento posterior.

O tratamento com plasma de uma superfície geralmente é feito em uma câmara da qual o ar foi evacuado. Um gás então flui para a câmara em baixa pressão. Normalmente, o oxigênio industrial é usado como o gás de processo, daí a comumente conhecida frase "plasma rico em oxigênio". Mas nitrogênio, argônio, hidrogênio e tetrafluorometano de carbono também são freqüentemente usados. Esses gases ou uma combinação deles são usados ​​na maioria dos laboratórios em todo o mundo. O Semitron MPR1000 pode suportar esses ambientes hostis melhor do que os materiais tradicionais:quartzo, cerâmica, Torlon®, Vespel® ou PEEK.

O gás é então energizado por energia de radiofrequência que foi gerada entre uma série de eletrodos. O resultado é plasma. Ao selecionar a mistura de gases, a pressão e a potência, o efeito do tratamento de plasma na superfície pode ser controlado com precisão.

Baixa taxa de erosão

Quando comparado com a porcentagem de perda de peso em plasma rico em oxigênio, Semitron® MPR1000 supera PEEK, Torlon® e Vespel®. MPR1000 sofre uma erosão de 0,44% em 1KW. PEEK perde 7,98%, enquanto Torlon sofre erosão em 6,86% e Vespel em 6,15%. O MPR1000 tem um desempenho 13 vezes melhor do que o Vespel.

Limpeza:baixo conteúdo de material iônico e baixa emissão de gases

O Semitron® MPR1000 possui baixo conteúdo de material iônico e baixa liberação de gases. Um íon é um átomo ou molécula que carrega uma carga elétrica. Portanto, os contaminantes do material na Câmara de Plasma a Vácuo serão baixos.

Custo

Semitron® MPR1000 tem custo geral mais baixo do que outros materiais comumente usados, enquanto fornece o mais alto desempenho em câmaras de plasma.

Impressões, peças ou problemas? Entre em contato conosco em Craftech Industries, Inc. Hudson, NY.

Craftech é fabricante de fixadores, componentes e peças personalizadas no Semitron MPR1000.